Chemische Industrie

Seit Jahrzehnten löst KEM als zuverlässiger Partner der Chemischen Industrie erfolgreich die vielfältigsten Aufgabenstellungen im Bereich Durchflussmesstechnik.

In enger Zusammenarbeit mit den Kundenunternehmen entwickeln wir bewährte Technologien weiter oder erarbeiten innovative Messlösungen für die Verwendung in den unterschiedlichen Prozessen von Labor- und Produktionsanlagen.

Die KEM Messgeräte bewältigen dabei eine ganze Reihe höchst anspruchsvoller Anforderungen. Sie müssen beispielsweise zuverlässig mit besonders kritischen anorganischen und organischen Substanzen umgehen. Gegenüber korrosiven, nicht selten auch toxischen Medien sind sie resistent und messen diese präzise über äußerst weite Druck- und Temperaturbereiche bei unterschiedlichsten Rohrnennweiten. Im direkten Kernreaktorumfeld erfüllen sie höchste Sicherheitsstandards im Umgang mit diversen Chemikalien und überzeugen mit außergewöhnlicher Lebensdauer.

Für eine optimale Lösung der Messaufgaben steht in dieser Branche die bewährte KEM Produktpalette zur Verfügung.

KEM Produktgruppen

Massendurchflussmesser (TCM)

Zahnrad-Durchflussmesser (ZHM)

Turbinen-Durchflussmesser (HM)

Mikro-Durchflussmesser (LFM)

Anwendungen und KEM Produkte

Die Kombination von hochwertigen Materialien, spezifischen Bauformen und Geometrien sowie die Verwendung unterschiedlicher Messprinzipien ermöglicht eine breite Palette an Durchflussmessern für die typischen Anwendungen in der Chemischen Industrie.

• Messen und Dosieren von Additiven (TCM, ZHM ST, ZHM KL, ZHM CT, HM F, HM R, HM E, LFM)
• Mischen (Additives Blending), Mediengemische sowie Abfüllen und Dosieren (TCM)
• Bidirektionale Messung (TCM, ZHM, HM)
• Kleinstmengenüberwachung (TCM, LFM) und Größtmengenüberwachung (TCM)
• VE-/Demi-Wassermessung (HM)
• Be- und Entladen (TCM)
• Dosieren und Mischen von Grundchemikalien/Batch-Prozesse (TCM, ZHM)
• Weiterverarbeiten von Harzen (TCM, ZHM)
• PU-Herstellung mit Isocyanat und Polyol (TCM, ZHM)
• Dosierüberwachung von Alkohol als Basisstoff oder Reinigungsmittel (HM)
• bei chemischen Reaktionen von niederviskosen Medien (TCM, HM, LFM) und hochviskosen Medien (TCM, SRZ)